熱解石墨沉積爐

產(chǎn)品描述：: 用于石墨、半導體器件、耐熱沖刷材料的表面熱解石墨涂層或生長。

應用范圍：: PG坩堝、PG板材、蒸鍍用坩堝、LEC坩堝、離子注入組件等。產(chǎn)品純度≥99.999%/99.9999%。

產(chǎn)品咨詢索取報價400-677-0098

技術特征
產(chǎn)品規(guī)格
配置選擇

熱解石墨沉積爐技術特征

電阻爐可采用多溫區(qū)獨立控溫，溫度均勻性好；

采用智能壓力調(diào)控，壓力波動小；

全封閉沉積室，密封效果好，抗污染能力強；

多通道工氣路，流場均勻，無沉積死角，沉積效果好；

多級高效尾氣處理系統(tǒng)，環(huán)境友好，易清理；

可選配外循環(huán)快冷系統(tǒng)，降溫時間短，生產(chǎn)效率高；

適于工藝氣氛：真空/CH4/C3H6/H2/N2/Ar。

熱解石墨沉積爐產(chǎn)品規(guī)格

參數(shù)\型號	VCVD-0305-C	VCVD-0505-C	VCVD-0608-C	VCVD-0612-C	VCVD-0812-C	VCVD-1120-C	VCVD-1218-C	VCVD-1520-C
工作區(qū)尺寸 φ×H（mm）	300×500	500×500	600×800	600×1200	800×1200	1100×2000	1200×1800	1500×2000
最高溫度（℃）	2000/2300
溫度均勻性（℃）	±5	±5	±5/±7.5	±7.5/±10	±7.5/±10	±10/±15	±10/±15	±15/±20
極限真空度（Pa）	1-100
壓升率（Pa/h）	0.67
加熱方式	電阻/感應

以上參數(shù)可根據(jù)工藝要求進行調(diào)整，不作為驗收依據(jù)，具體以技術方案和協(xié)議為準。

熱解石墨沉積爐配置選擇

在線留言

廣告法聲明

新廣告法規(guī)定所有頁面不得出現(xiàn)絕對性用詞與功能性用詞。我司嚴格執(zhí)行新廣告法，已開展全面排查修改，若有修改遺漏，請聯(lián)系反饋，我司將于第一時間修改，我司不接受以任何形式的極限用詞為由提出的索賠、投訴等要求。所有訪問本公司網(wǎng)頁的人員均視為同意接受本聲明。

電話：18874256050
郵箱：sales5@sinoacme.cn